钛靶的制备主要采用‌熔铸法‌和‌粉末冶金法‌，两种工艺在适用性、成本及性能上存在显著差异：

1. ‌熔铸法‌

原理‌：将高纯钛原料在真空或惰性气体保护下熔炼，浇铸成锭后经轧制、锻造及机加工成型‌。

优点‌：设备简单、成本低，适合批量生产大尺寸靶材‌。

缺点‌：

易氧化，需严格控氧‌；

晶粒粗大，可能存在成分偏析，影响溅射薄膜均匀性‌。

应用‌：低纯度钛靶，如工业装饰镀膜领域‌。

2. ‌粉末冶金法‌

原理‌：将钛粉混合后冷等静压成型，再高温烧结致密化，或采用放电等离子烧结快速成型‌。

优点‌：

纯度更高，晶粒可控，适合掺杂合金；

避免熔铸法的氧化问题，微观组织均匀‌。

缺点‌：工艺复杂，需HIP处理降低孔隙率，成本较高‌。

应用‌：高纯度钛靶及复合靶材，如半导体、航空航天领域‌。

3. ‌新兴工艺：SPS

特点‌：脉冲电流快速致密化，致密度>99.5%，晶粒细化‌。

局限‌：设备成本高，靶材尺寸受限‌。

工艺选择趋势

高纯度需求‌：半导体、医卫领域倾向粉末冶金法或SPS工艺‌；

成本敏感场景‌：熔铸法仍主导工业涂层等中低端市场‌。